Kategorie
Tlenek cynku
ZnO tlenek cynku
ZnO
Urządzenia. Reakcja:B kin A+ + e + B → A + B +W- dwustopniowa – najpierw elektron przyłącza się do atomu neutralnego tworząc jon ujemny,a ten następnie rekombinuje z jonem .ten następnie rekombinuje z jonem dodatnim.- radiacyjna – nadmiar energii jest wypromieniowany jako suma energii jonizacji ikinetycznej.Proces może przebiegać jedno- lub dwustopniowo: - dysocjatywna – dla gazów cząsteczkowych może zachodzić
Czytaj całość >>Mikrosystemy
3 ciałA+ + B− → A + B rekombinacja poprzez wymianę ładunkuZderzenia:- metastabil – cząstka neutralna: Jeżeli w mieszaninie Penninga gazy energia stanumetastabilnego gazu podstawowego jest większa od energii jonizacji .jest większa od energii jonizacji gazu domieszki tomożliwa jest reakcja Penninga:Przeładowanie Reakcja ta obniża energię jonów dla jonizacji β jednak uzyskane szybkie atomy tworząstrumienie zawierające szybkie i skorelowane cząstki
Czytaj całość >>Nanotechnologia
Natomiast w gaziezderzenia powodują zmianę wartości i kierunku prędkości. W fazie początkowej zderzeniamaja charakter sprężysty tzn. elektron kumuluje energię, aż do pojawienia się zderzeń niesprężystych. Które powodują że cały zbiór .Które powodują że cały zbiór statystyczny zaczyna poruszać się ze średnią stałąprędkością ue = μeE. Ruchliwość μe zależy od temperatury (T) i ciśnienia (p), dla elektronówmożna opisać ja wzorem Langevina.Dyfuzjadyfuzja
Czytaj całość >>Technologie
Elektrony, przyśpiesza jony, wyrównując ich prędkości.- dyfuzja przejściowa – występuje w wyładowaniach małej mocy jeżeli koncentracja jonówjest za mała aby była dyfuzja ambipolarna to wtedy w części centralnej występujeambipolarna a .w części centralnej występujeambipolarna a w części peryferyjnej jednoskładnikowa.Powielanie elektronów:- w stałym, jednorodnym polu elektrycznym- w szybko zmiennym polu elektrycznym (w jednym pół okresie mamy mały pobór energii, aw drugim
Czytaj całość >>Elektronika
Jony (γj – miara prawdopodobieństwa zdarzenia)- fotony (γf – miara prawdopodobieństwa zdarzenia)- metastabile (γm – miara prawdopodobieństwa zdarzenia)Całościową miarą γ nazywamy współczynnikiem Townsendaplazma izotermiczna - Tg=Te=Tj plazma nieizotermiczna Ze wzrostem .Tg=Te=Tj plazma nieizotermiczna Ze wzrostem ciśnienia rośnie liczba zderzeń elektronów z pozostałymi cząstkami więc energia podzbiorów wyrównuje się (już przy ok 10 hPa).Zjawiska zachodzące w plazmie możemy podzielić na:–
Czytaj całość >>PCB
Jest prostopadłe do v mc) po torze śrubowym gdy jest inny kątW polu niejednorodnym promień Lamora maleje, gdy B rośnie to promieńmaleje. Dzięki temu, że ze wzrostem indukcji B .że ze wzrostem indukcji B kąt rośnie do 90, to jestmożliwe że w pewnym punkcie dochodzi do odbicia cząstki. Zatem obszar pola o rosnącej indukcji stanowi zwierciadło magnetycznewyłądowaniawg warunków podtrzymania–
Czytaj całość >>Sitodruk
€“ niesamodzielne, z lawinowympowielaniem zderzeniowym noÅ›ników– wyÅ‚adowanie jarzeniowe – z emisjÄ… wtórnÄ… elektronów z katody (γ)podtrzymujÄ…cÄ… wyÅ‚adowanie samodzielne– wyÅ‚adowanie Å‚ukowe – z emisjÄ… termo/autoelektronowÄ…podtrzymujÄ…cÄ… wyÅ‚adowanieNapiÄ™cie zapÅ‚ony możemy obniżyć przez:– stosowanie .zapÅ‚ony możemy obniżyć przez:– stosowanie mieszaniny Penninga– stosowanie materiaÅ‚u katody o maÅ‚ej pracy wyjÅ›cia i dużym γ (np.Cezowanie)– stosowanie czynników stymulujÄ…cych zapÅ‚on (laser, żarzenie katody)wyÅ‚adowanie ulotoweGdy jedna lub obie elektrody
Czytaj całość >>Proznia
Trzeba by chłodzić katodęOdpowiada mu zakres miliamperowyJarzeniowe z w.cz. Zalety:• możliwość stosowania niższych ciśnień• spadki napięć odwrotnie proporcjonalne do powierzchni elektrod• możliwość stosowania elektrod z materiału nieprzewodzącegoWyładowanie łukowe • Samodzielne .materiału nieprzewodzącegoWyładowanie łukowe • Samodzielne lub niesamodzielne ( z żarzoną katodą )• występuje w szerokim zakresie ciśnień ( 10e-4 hPa do dziesiątki MPA )• silnoprądowe [ zakres amperów ]• źródło
Czytaj całość >>Fizyka
Iskrowe• Niestabilne czasowo i przestrzennie• istotne znaczenie odgrywa mechanizm fotonowy• występuje w warunkach pociągnięcia łuku ale przy małej mocy zasilania• często jest pasożytniczeZastosowanie:• zapłon silników niskoprężnych• zapalniczki piezo• obróbka elektroiskrowa .niskoprężnych• zapalniczki piezo• obróbka elektroiskrowa [ grawerowanie, cięcie z dokładnością lepszą niż laser ]Zjawiska zachodzące na granicy ciało stałe – gaz przybombardowaniu jonami• odbicie jonu• odbicie zneutralizowanego jonu• wybicie elektronu•
Czytaj całość >>Chemia
Przy pomocy jonów.Systematyka:• fizyczne – kinetyczne wybijanie atomów, cząsteczek i clusterów w postaci neutralnej lubzjonizowanej• chemiczne – odd. Aktywnych cząstek ( rodników ) dające związki lotne podlegającespontanicznej desorpcji• reaktywne – .lotne podlegającespontanicznej desorpcji• reaktywne – reakcje gazu z targetem powodują obniżenie energii wiązań produktów reakcji iułatwiają ich rozpylanieCząstki rozpylane• Stan ładunkowy – w większości elektrycznie obojętne. Jony dodatnie 1% jony
Czytaj całość >>Krysztay
Duże – nadkosinusowyOkreślone wzorem: Na=N0 cosprzy nie prostopadłym – zgodny z prawem odbicia– dla mono – preferencyjne są obszary Wehnera• prędkość i energia średnia rozpylania rozpylanych cząstek – są znacznie .rozpylanych cząstek – są znacznie większe niż wparowaniu czy sublimacji. Są ujemnie skorelowane z szybkością rozpylania materiałów. Malejąze wzrostem kąta padania jonów, są tym większe im masa jonu padającego jest
Czytaj całość >>czujniki
W.cz. (RFS) – mechanizm, aparatura, zalety, zastosowanieMechanizm:Wykorzystywane jest wyładowanie jarzeniowe w.cz. z efektem autopolaryzacjitargetu przy gęstości prądu do 10m A/cm2. Szybkość rozpylania ~50-100 Ǻ/min. na 1W/cm2 (większe niż w układzie .1W/cm2 (większe niż w układzie DC).Rozpylanie magnetronowe (MS) – zasada działania, schemat układu, zaletyZasada działania:Układ rozpylania z polem magnetycznym skoncentrowanym w pobliżu targetu(katody) i mającym znaczną wartość składową indukcji równoległej
Czytaj całość >>Sensory
Zalety, zastosowaniewolne, neutralne elektrycznie rodniki (np. F*, Cl*, CF3*) wytwarzane wwyładowaniu (np. w drodze dysocjacji zderzeniowej przez elektrony) reagująspontanicznie z materiałem trawionym, dając lotne związki odpompowywane zkomory rozpylania -> proces .odpompowywane zkomory rozpylania -> proces trawienia materiału w drodze chemicznego rozpylania.Platerowanie jonowe (układ Mattoxa, BARE, HCIP)Platerowanie jonowe (IP – Ion Plating) – jest to metoda nanoszenia warstw, wktórej przed i
Czytaj całość >>Tlenekcynku
Ostatni etap rozwoju parowania).PVD w odróżnieniu od metod CVD pozwalają stosować niższe temperatury imodyfikować struktury warstw, ale są wolniejsze i droższe. Trawienie (etching) – to proces, w którym występuje usuwanie .proces, w którym występuje usuwanie materiałuz powierzchni ciała stałego pod wpływem określonego czynnika trawiącegow drodze zjawisk fizycznych (np. rozpylanie), bądź w drodze reakcjichemicznych.Wyróżnia się:trawienie mokre (wet etching):- realizowane w roztworach
Czytaj caÅ‚ość >>All content copyright © 2009 Nano prety, all rights reserved. Layout created at CSSWebLayouts
Sitemap 
